用低温等离子体进行表面处理已经引起了很多关注。等离子体清洗对样品表面的污染的处理可以应用在很多方面,如金属、塑料、玻璃以及聚合物表面,与传统方法相比,它对环境的无污染性,使它在这些领域得到更加广泛的应用。但是将等离子体应用于光学元件和膜层还是一个新课题。 目前随着高功率激光器的发展,对光学元器件质量的要求越来越高。常规加工的光学元器件和薄膜的表面污染和缺陷比较多,这将直接影响高功率激光器通量和运行可靠性,而常规清洗处理方法并不能完全解决这些问题。等离子体清洗的无残留、无污染的特性,为我们以后光学元件的处理提供一种新的思路和方法。因此本文就等离子体对膜层表面形貌和表面性质的影响进行了研究: 1 利用膜层厚度与激光透过率的关系,分析等离子体清洗对sol-gel膜层厚度的影响。利用溶剂和杂质对激光透过率的关系,分析等离子体对溶剂和杂质的清除作用。 2 测试等离子体清洗前后表面相貌的变化。利用样品表面宏观和微观形貌的变化,分析等离子体对膜层表面杂质的清除作用,分析等离子体刻蚀、轰击、烧蚀等作用对膜层表面宏观结构和微观结构的影响。还分析清洗时间的变化对膜层表面的不同程度的影响。 3 测试表面接触角的变化,分析等离子体对样品表面的油脂污染的清除作用及等离子体在表面发生的一些物理化学反应。分析这些物理化学反应对膜层表面润湿度的影响。