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目的:研究三种不同脱敏剂和垫底、盖髓材料处理牙本质,常规分层技术充填树脂后,对牙本质粘结界面纳米渗漏及粘结强度的影响,并与树脂直接充填作比较,为深龋治疗的临床应用提供实验依据。方法:实验前三个月,收集在河北医科大学第二医院口腔科门诊因正畸需要拔除的完整,无龋,无隐裂的前磨牙,共60颗,清除表面附着物,冲洗清洁后-20°C蒸馏水中冷藏备用。将离体前磨牙在大量水雾冷却下,用快速金刚砂车针,垂直于牙体长轴去除牙齿牙合面的釉质,完全暴露牙本质后再向根方磨除2mm厚的牙本质,并磨除牙冠周围釉质,形成3×4×3mm3大小的牙本质块,以牙合面(面积统一为3×4mm2)为实验粘接面(为剪切强度实验做准备)。粘接前用0.5mol/L,pH=7.4的EDTA水溶液处理lmin,然后用水枪冲洗干净,75%酒精消毒,备用。将制备好的60个离体牙模型随机分成6组,每组10颗,按以下步骤分组填充。1组:单纯Spread iBond自酸蚀粘接剂+树脂充填;(对照组)2组:Gluma系统处理剂+Spread iBond+树脂充填;3组:BisBlock TM树脂型脱敏剂+Spread iBond+树脂充填;4组:极固宁TM脱敏剂+Spread iBond+树脂充填;5组:Ionosit-Baseliner光固化垫底材料+ Spread iBond+树脂充填;6组:Dycal+ Spread iBond+树脂充填(2-6组为实验组)。填充完毕后,将标本在室温下置于生理盐水中24小时待材料完全固化,之后再进行冷热循环老化实验。将标本交替放入5°C和55°C恒温水箱中进行冷热循环,每循环一次标本分别在5°C(±2°C)和55°C(±2°C)的冷热水中停留1分钟,共循环720次。循环完毕后,用白蜡封闭根尖孔,再在牙齿表面均匀涂两层指甲油(粘接界面边缘外1mm的范围除外),自然晾干。将标本浸入50%的氨化硝酸银溶液中避光保存24小时,之后冲洗,显影8小时,显影完后,流水冲洗5分钟。在流水冷却下,用低速金刚砂片将所有标本沿牙体长轴从牙合面中央切开,其中一半标本用于电镜下观察纵剖面纳米渗漏情况;另一半用于剪切强度测试。每组选一个标本按要求制作扫描电镜观察标本,在扫描电镜(SEM)下观察。记录扫描电镜高倍图像。把60个用于做剪切强度实验的标本固定在自凝树脂中,露出牙面,牙体长轴与自凝塑料底座垂直,把标本固定在万能试验机剪切夹具中,剪切速度为0.5 mm/min,电脑记录最大剪切应力值,比较各组剪切强度。采用Kruskal-Wallis H检验,对六组数据进行总体分析;采用Wilcoxon秩和检验对六组数据进行多重比较,按α=0.05水准,P﹤0.05为有统计学意义。结合标本实体图像、电镜高倍图像和粘接强度数据统计结果,分析比较每组材料的优缺点。结果:从六组的标本实体图像可以看到:2组的渗漏最小,1组与3组的渗漏情况相似,都比较小,明显小于4、5、6组。4组材料本身和部分剖面牙本质染色,6组的渗漏最严重,从剖面观,基本已经达到牙本质界面的三分之二,提示4组和6组材料与牙本质粘接封闭性能较差。在扫描电镜高倍图像中,1组,2组,3组和5组均未见牙本质小管内渗漏。并且2组材料和牙本质粘接最为紧密。4组和6组高倍镜下均见牙本质小管内较密集银离子渗漏,呈雨滴状。提示2组(Gluma组)与牙本质粘接封闭作用较强,纳米渗漏最少。3组(BisBlockTM组)与对照组相似;5组(Ionosit-Baseliner光固化垫底组)牙本质小管内虽未发现渗漏,但材料与牙本质间渗漏带较对照组宽,边缘封闭性较弱;4、6组(极固宁TM,Dycal组)渗漏最多,且材料与牙本质间裂隙最大,边缘封闭性最差。剪切强度试验,对六组数据进行总体分析的Kruskal-Wallis H检验:H = 46.984, P﹤0.05,有统计学意义,可认为六组的剪切强度不完全相同。Wilcoxon秩和检验对六组数据进行多重比较,其结果:1、2、3组间两两比较,结果均为p﹥0.003, 1、2、3组间差异无统计学意义,剪切强度无显著不同。4组与2、5、6组比较,结果均为p﹤0.003,4组与2、5、6组差异有统计学意义,剪切强度不同。4组与1、3组比较,结果均为p﹥0.003,4组与1、3组差异无统计学意义。5组与1、2、3、4、6组比较,结果均为p﹤0.003,5组与1、2、3、4、6组差异有统计学意义,剪切强度不同。6组与1、2、3、4、5组比较,结果均为p﹤0.003,6组与1、2、3、4、5组差异有统计学意义,剪切强度不同。提示1、2、3组剪切强度比5、6组高,存在显著差异。结论:1 Gluma组纳米渗漏最少。BisBlockTM组居中,与对照组相似。极固宁TM,Ionosit-Baseliner和Dycal组渗漏最多,其中极固宁TM和Dycal组牙本质小管内发现渗漏,边缘封闭性最差。2 Gluma和BisBlockTM组剪切强度高于对照组,但无统计学意义。极固宁TM居中,与对照组相似。垫底、盖髓组低于对照组,差异有显著性,其中Ionosit-Baseliner组稍高于Dycal组。3 Gluma和BisBlockTM脱敏剂组比其它组纳米渗漏小,剪切强度高;其中Gluma组纳米渗漏最少,且具有较好的剪切强度。