随着我国信息产业的发展,设计开发具有自主知识产权的集成电路成为一项基础性的工作。FPGA在电子设计领域起到越来越重要的作用,但是我国目前采用的FPGA芯片大多是从国外进口的。设计开发具有自主知识产权的FPGA芯片具有极其重要的意义。针对上述问题,本论文对FPGA的CAD设计流程中至关重要的工艺映射进行了深入的研究与分析,为未来进一步的研究工作奠定了基础。主要内容为：1.详细介绍了基于LUT的深度优化工艺映射算法中经常用到的一般延迟模型,并对经常用到的深度和面积优化技术作了介绍。2.以优化目标为依据,分别对基于LUT的深度优化算法和面积优化算法进行研究。分别对深度优化算法中的DAG-MAP算法、FLOWMAP算法以及Edge-Map算法中用到的分解技术、网络流技术、最大流量最小割理论及节点分割技术进行了深入的研究与分析,并通过对这三种算法实验结果的比较,从时间复杂度和优化目标方面给出自己的评价。3.通过对动态标号法的研究,提出用动态标号法对FLOWMAP算法进行改进的思想,并从理论上分析了其可行性。4.定义了面积优化IMAP算法中用到的面积流量的概念,并对IMAP算法中用到的前向搜索算法和后向搜索算法给出了伪码实现。5.研究了针对ALM结构的工艺映射算法。主要对算法中用到的提取技术和合并技术给出了自己的理解。6.通过对将电路问题转换为SAT问题的分析,对SATMAP算法进行了深入研究。SATMAP算法是对IMAP算法的改进与扩展,将基于LUT的IMAP算法扩展为直接针对PLB的映射算法。