双核磺化酞菁钴的光谱和电化学行为研究

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本论文研究了双核磺化酞菁钴(bi-CoPc)在非水溶剂:N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、二甲亚砜(DMSO)、水溶液及混合溶液中的光谱和电化学行为。通过可见光谱法研究了bi-CoPc在水溶液中的聚集机理。通过阳离子表面活性剂:双十二烷基二甲基溴化铵(DDAB),在水溶液中将bi-CoPc修饰到热解石墨电极表面,研究了这种修饰电极电化学与电催化行为。研究表明: (1)bi-CoPc在DMF、DMSO中均表现出良好的电化学性质,在DMSO当中,Co/Co的还原过程的峰出现了裂分现象。 (2)由于氢键的作用,bi-CoPc在水溶液中发生了强烈的聚集,将bi-CoPc制成bi-CoPc-DDAB薄膜修饰电极或配制成一定体积比的混合溶液的方法均能有效地降低bi-CoPc在水溶液中的聚集度。通过电子显微镜进一步观察了bi-CoPc在水溶液、DDAB薄膜和混合溶液中的存在形态。 (3)应用循环伏安法估计了DMF体系、薄膜体系中的电荷传递扩散系数Dc、表观非均相电极反应速率常数ks及薄膜电极的表面覆盖度。在DMSO体系中,根据裂分能计算了bi-CoPc生成CoPc(-3)CoPc(-3)化合物的反应常数Kc。 (4)bi-CoPc环上的还原可用于对三氯乙酸(TCA)的催化,催化电流与TCA的浓度在3×10-5~7.5×10-3mol/L范围内成线性关系,bi-Co(Ⅲ)Pc/bi-Co(Ⅱ)Pc的还原过程可用于对分子氧的催化。
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