在激光领域中，进行激光调制和激光隔离时，常常需要把普通激光变成偏振光，这时需要起偏元件。一般起偏器和检偏器用双折射晶体制成，但随着激光工作的发展，对偏振器的质量要求越来越高，对偏振片的尺寸要求越来越大。这时，仅仅依赖于晶体偏振器就比较困难，为了适应这种要求可以采用薄膜偏振片。从镀膜材料特性、膜系设计、沉积工艺等方面对这一问题展开了深入的研究。　　根据光学仪器的使用要求，从薄膜光学基本理论和膜系设计理论方面简要阐述抗激光损伤薄膜的原理以及影响光学薄膜稳定性的各种因素。采用电子束真空镀膜的方法并加以离子辅助沉积系统，通过选择ZrO2和SiO2分别作为高低折射率材料，利用TFcal软件进行膜系设计与分析，采用MDC-360晶振控制仪监控，并且不断优化工艺参数，尽可能减少监控误差，在K9基底上镀制1064nm的偏振膜，要求该膜层不仅能满足光谱特性要求，而且要求其可以顺利通过膜层的各种环境测试，满足使用要求。