通过在基片下放置磁铁在放电空间中引入垂直基片方向的磁场，磁性靶的溅射变得更加容易。与此同时，沉积薄膜的一些物理性能发生了变化，并且发现这种效果也同样出现在溅射非磁性靶的情况。实验中观察到，在外加磁场的作用下，等离子体放电的辉光的明亮程度及外貌和靶面自偏压发生了明显变化。进一步对沉积薄膜的测量表明，薄膜的结晶情况和沉积速率也因为外加磁场而发生了变化。我们认为，由于外磁场引起了放电空间中以及靶面附近磁场分布的改变，从而影响了等离子体中带电粒子的运动并最终导致了上述变化。通过细致的测量还发现，薄膜在膜面内存在明显的厚度梯度，这应当是沉积粒子受梯度磁场作用的结果。另外由于外磁场改变了磁力线在靶表面处的分布，使得靶面刻蚀环的位置，宽度及深度都发生了变化，因此适当分布的外磁场还可以提高靶的利用率。