【摘 要】
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光散射是主要的光学薄膜损耗之一。因为成本和技术问题,不断地降低基底表面粗糙度不是一种有效的减小散射损耗的方法。因此,必须通过一种新的方法来实现薄膜散射损耗的减小。本文主要对光学薄膜界面粗糙度调控及减散射特性进行了研究。仿真分析了单层光学薄膜的双向反射分布函数模型,讨论了实现减散射的条件,并且利用电子束热蒸发技术沉积单层TiO_2和SiO_2薄膜,探究了不同工艺参数对单层光学薄膜表面粗糙度的影响,最
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光散射是主要的光学薄膜损耗之一。因为成本和技术问题,不断地降低基底表面粗糙度不是一种有效的减小散射损耗的方法。因此,必须通过一种新的方法来实现薄膜散射损耗的减小。本文主要对光学薄膜界面粗糙度调控及减散射特性进行了研究。仿真分析了单层光学薄膜的双向反射分布函数模型,讨论了实现减散射的条件,并且利用电子束热蒸发技术沉积单层TiO_2和SiO_2薄膜,探究了不同工艺参数对单层光学薄膜表面粗糙度的影响,最后通过实验对比镀膜前后的BRDF值的大小,验证了减散射的特性。具体结论如下:(1)结合单个表面的散射模型
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