本论文在分析大量国内外文献的基础上，对微弧氧化技术研究现状、应用前景和应用领域进行了综述，并对微弧氧化技术所涉及的理论基础知识讲行了概括。 重点是实验研究部分，在该部分中主要研究了铝酸盐、磷酸盐、硅酸盐体系的镁合金微弧氧化处理液配方组成及电流密度、氧化时间、电流频率、电流占空比对在镁合金表面微弧氧化制备陶瓷层的影响。通过实验找出了能制得性能优异的陶瓷膜层的条件。初步探讨了镁合金试样表面陶瓷化成膜的机理，并借助SEM、XRD等方法，观察了陶瓷层的形貌、结构，并测定了陶瓷层的相组成。对不同实验条件下制备的陶瓷膜的厚度、耐腐蚀性等性能进行了测试分析。 研究表明，镁合金微弧氧化陶瓷层由疏松层、致密层和过渡层三部分组成。微弧氧化时间、电流密度、电流占空比、电流频率、电解液组成等工艺参数对微孤氧化陶瓷层的耐蚀性能和膜层质量均有明显的影响。从组织结构观察发现陶瓷层的致密性是影响其耐蚀性主要因素。电流密度、工作电压是决定能否发生微弧氧化的关键因素：在一定的氧化时间范围内，氧化时间的长短是抉定微弧氧化膜层厚度的根本因素：而溶液体系的成分虽对微弧陶瓷膜层有一定的影响，但影响不是很大。微弧氧化陶瓷层由MgO、Al₂O₃、MgAl₂O₄和无定形相组成。 由于微弧氧化技术能在镁合金表面原位生长陶瓷膜层，把镁合金材料与陶瓷材料的优点结合在一起，使得微弧氧化技术能够满足许多尖端技术的需要，在军工、航空、航天、机械、纺织、汽车、医疗、电子和装饰等许多领域有广泛的应用前景。