Cu薄膜应力的计算机模拟与表征

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在当代高科技领域,薄膜科学有着极其重要的应用,许多新材料和新器件的开发都是从制备薄膜开始的.薄膜应力是薄膜生产、制备中的一种普遍现象,几乎所有的薄膜都处于一定的应力状态,过大的张应力或压应力都会引起薄膜表面破损,使生产成本不断提高,极大地限制了薄膜的使用性能。通过对薄膜应力的研究,可以了解薄膜的破坏机理,进而达到改善薄膜抗损伤性能的目的。但是由于薄膜复杂的生长过程,用实验和理论的方法研究薄膜的生长存在一定的困难,因而人们开始用计算机模拟的方法来研究薄膜的微观生长过程。本文首先在理解薄膜生长
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