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二氧化硅(SiO2)薄膜的折射率低、消光系数低、色散小、附着力强、粗糙度小,在可见光和近红外区域均为透明,是一种理想的光学薄膜。另外,SiO2薄膜的硬度大、绝缘性好、耐磨损、抗腐蚀、化学性能稳定,抗激光损伤阈值较高,机械性能优越,已经广泛地应用于光学、机械及微电子等领域。随着近年来大功率激光器的发展,特别是大功率激光器在武器中的应用,人们对SiO2薄膜的抗激光损伤特性表现出了极大的兴趣。目前制备SiO2薄膜的方法很多,其中反应磁控溅射(RMS)和离子束反应溅射(RIBS)方法是目前国内外高