背景工频磁场是指频率为50Hz的极低频磁场。随着电气化的发展,家用电器的广泛使用,人们日常生活环境以及职业环境中工频磁场的暴露水平与日俱增,因此,揭示工频磁场对人体健康的影响成为目前公共卫生领域的重要课题。DNA作为生物体最重要的遗传物质,易受到内源性或外源性因素的袭击而产生DNA损伤,并最终导致肿瘤等疾病的发生。因此有关工频磁场对细胞DNA损伤修复的影响成为评价工频磁场健康风险的关键事件之一。尽管三十多年来,研究者们对于工频磁场的DNA损伤效应进行了研究,但迄今为止,尚无确切结论。目的为了更全面、客观的评价工频磁场的DNA损伤效应,本研究采用不同方法评价工频磁场暴露对人晶状体上皮细胞DNA损伤作用。方法人晶状体上皮细胞暴露于0.4mT,50 Hz工频磁场2h、6h、12h、24h和48h后,采用γH2AX焦点形成实验(免疫荧光法、流式细胞法、免疫印迹法)以及彗星试验检测细胞DNA损伤情况。每个时间点分别设置一一对照的假暴露组,4NQO和双氧水处理为阳性对照。其中γH2AX焦点形成实验采用平均焦点数、阳性细胞率和γH2AX蛋白表达量作为DNA损伤程度评价指标,彗星试验采用尾长和尾距作为DNA损伤程度评价指标。结果工频磁场各时间点暴露组和对应假暴露组比较,γH2AX免疫荧光法检测结果显示,平均焦点数和焦点阳性细胞率均没有显著性差异(P>0.05)；流式细胞法检测结果显示阳性细胞率均低于5%,无统计学差异(P>0.05)；免疫印迹实验结果显示,γH2AX蛋白表达量没有显著性差异(P>0.05)；彗星试验结果显示,各组尾长和尾距均没有显著性差异(P>0.05)。结论在本实验条件下,工频磁场未导致人晶状体上皮细胞DNA损伤。