碳纳米管薄膜场发射显示器的制备及其性能研究

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在现今信息化的社会,显示技术在各个领域中占据重要的地位,显示技术的进一步发展将为社会创造更大的财富,因而高性能、低成本的显示技术成为21世纪研究的新热点。碳纳米管以其高的长径比、大的比表面积、稳定的化学性质、良好的导电性等性质,成为显示领域首选的新材料。碳纳米管在众多领域中具有多方面的应用,它能用于电容器、电池电极、半导体器件、复合材料等。本文主要介绍了碳纳米管的起源和分类、纳米管的性质和在各个领域中的应用,并分析了场致电子发射原理。碳纳米管的制备方法主要有化学气相沉积法、电弧放电法和激光烧蚀法,其中本文着重强调化学气相沉积法。本文还介绍了碳纳米管的表征方法,主要有扫描电子显微镜、透射电子显微镜和拉曼光谱仪。本文采用丝网印刷技术,制成碳纳米管阴极薄膜,制备工艺简单、发射效果好、易实现产量化。文中阐述了碳纳米管场发射显示器制备的整个流程,并着重强调场发射显示器性能的改善,详细论述了等离子体处理和3M胶带处理阴极薄膜的处理方法和处理后的结构比对、分析,以及对比了不同形貌的碳纳米管制成的阴极薄膜后的场发射性能,从而得到制备碳纳米管场发射显示器的最优方案。本课题的研究尚存在电流密度不够大、发光均匀性有待提高、稳定性待增强等不足,本实验组将通过改善丝网印刷浆料的配方和工艺、提高电流的稳定性和发光的均匀性入手,逐步的提高场发射性能,从而实现碳纳米管场发射显示器的产量化。
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