介质/金属/介质多层薄膜光电性能改善研究

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介质/金属/介质多层薄膜(D/M/D),既具有较好的光学性能和电学性能,又能保证制备过程及工艺的简单与环保,因此可以作为新型透明导电电极,替代目前虽被广泛应用但具有一定毒性且成本较高的ITO膜。但在实际应用中,还需要进一步改善介质/金属/介质多层复合膜的光透过率和导电性能,才能使其得到广泛应用。本文先制备TiO2/Ag/TiO2复合薄膜,再采用氩等离子体辐照的方式,来提高TiO2/Ag/TiO2复合膜系的光电性能。围绕该主题,本文主要开展以下工作:首先,本文采用真空蒸发镀的方法制备纳米Ag薄膜,再使
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