材料是人类生存和发展的物质基础,硬质薄膜涂层材料是一种重要新型材料并广泛应用于各行各业。TiN薄膜作为最先产业化并广泛应用的薄膜涂层材料,具有一系列优异性能,适用于一些对材料具有特殊要求的领域。TiN薄膜的广泛应用对薄膜质量提出了更高要求,制备具有更高硬度、更高耐磨性,更好结合强度的TiN薄膜已成为国内外硬质涂层研究的热点。薄膜制备工艺是决定薄膜质量最重要的因素,常用的制备TiN薄膜方法有：物理气相沉积和化学气相沉积,在制备薄膜时需要根据不同需求选择相应制备方法。本文采用磁过滤离子束溅射方法制备TiN薄膜,并对薄膜进行表征,测得薄膜物性参数。用UMT-2多功能力学试验机对薄膜进行划痕试验和摩擦试验,考察了膜基结合强度。本文分析了薄膜与基体界面产生残余应力的原因,建立模型分析热载荷下的界面应力分布,并同数值模拟结果对照。对薄膜界面损伤破坏进行理论研究,在ABAQUS中采用扩展有限元法模拟了薄膜破裂扩展过程,并且编译了复合开裂指数型内聚力模型用户材料子程序(VUMAT),以此模拟了薄膜涂层与基体剥离过程,最后拟合两个过程的模拟结果,同划痕试验测量结果做对比,分析了误差产生的原因。