【摘 要】
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离子注入机是半导体制造的关键工艺设备,其中的控制系统研究是离子注入机研制的关键内容之一。本项目开展100nm大角度离子注入机的研究工作,以满足国内大生产线对离子注入工
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离子注入机是半导体制造的关键工艺设备,其中的控制系统研究是离子注入机研制的关键内容之一。本项目开展100nm大角度离子注入机的研究工作,以满足国内大生产线对离子注入工艺的迫切需求,具有重大工程应用价值。本文以100nm大角度离子注入机为研究对象,对其控制系统进行了深入研究,主要内容概括如下:1.系统地介绍了离子注入机的发展状况和基本原理,以及制造工艺对离子注入机性能的要求。2.依据现代设计的基本原理和离子注入机的设计需求,给出了整机的控制系统方案。3.完成了相应的控制系统(含主控系统、子系统)的设计。4.全面细致地分析了所设计控制系统的需求及机电作业特征,并详尽地给出了每个环节的设计方法、实现的细节以及实验测试的过程。5.基于上述设计的控制系统方案所研制的100nm大角度离子注入机,成功应用于国内的大生产线上,根据试验测试结果表明本机的功能、性能和技术指标能够满足大生产线上生产的工艺要求,达到国外同类设备先进水平,同时也验证了控制系统的可靠性和高性能。
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