多孔硅基功能薄膜的研究

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采用电化学腐蚀法制备的多孔硅,由于其孔隙率和生长厚度具有很大的可调性,而孔隙率和薄膜的折射率密切相关,因而多孔硅是一种很好的功能薄膜材料。由于多孔硅具有较大的表面积,因此可作为多种沉积或吸附物质的载体。本论文首先论述了多孔硅及多孔硅微腔的性质,根据光的电磁理论,推导了光在多孔硅中的传输矩阵,并用LabVIEW编写了计算多孔硅多层膜反射光谱的程序。在实验上成功制备了硅基宽带薄黑硅,由计算机控制对单晶硅进行电化学腐蚀,得到了孔隙率随深度连续均匀变化的多孔硅抗反射膜,即黑硅样品。样品不仅在较宽波
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