印染工业废水是极难处理的工业废水之一，印染工业废水组分复杂，常含有多种染料，色度深，毒性强，难降解，pH值波动大，而且浓度高，水量大。半导体TiO₂在紫外光照射下，能够将绝大多数有机污染物彻底矿化分解，在污染治理中具有诱人的前景，各国都进行了广泛的研究。本文在阐述印染废水的来源、特征及国内外治理途径的基础上，对半导体光催化氧化技术用于印染废水的作用机理、反应动力学及工艺条件进行了实验室规模的实验研究。实验用水包括模拟染料废水和实际印染废水两部分。模拟染料废水为次甲基蓝废水，实际印染废水取自陕西第三印染厂全厂总排放口的综合排水。由于固定化的催化剂比粉体催化剂更容易应用于实际的污染治理中，所以我们用溶胶—凝胶法在玻璃表面上制备了TiO₂薄膜型光催化剂，通过扫描电镜（SEM）、紫外和红外光谱等表征手段，对薄膜的组成和形貌进行了研究。 利用自行设计的光催化反应装置，以8W紫外灯为光源，系统的研究了光催化剂对次甲基蓝的降解性能，确定了有利于光催化反应的最佳条件。 （1）TiO₂薄膜：PEG掺杂量1％、薄膜层数为5层、热处理温度500℃、流量90mL／min、降解最佳pH为10.5，60min后MB脱色率达87.5％；满足一级动力学方程，反应速率常数为3.0×10²min¹，半衰期为23.1min；薄膜连续使用25次以上未见失活现象，放置一个月后，活性也未明显降低。