光刻是大规模集成电路的制造过程中最为关键的工艺,光刻物镜是光刻的核心,其性能直接决定了光刻的图形传递能力。大视场投影光刻物镜是目前光刻物镜研究发展的一个方向,用来制作大面积、高分辨率的印刷板线路,其设计加工的要求比较高。本文首先对光刻物镜的整个背景作了介绍,并且根据光刻物镜研制中做重要的一个参量——分辨率,阐述了光刻物镜的技术发展过程和未来的发展趋势。 论文的主要工作是大视场投影光刻物镜畸变检测方法的研究。提出了针对大视场投影光刻物镜畸变的计算方法,并在完成的畸变特性测量装置上进行了8英寸的硅片测量。在这个基础上,分析了光刻物镜的畸变特性,对研制完成的物镜我们检验了其暴光分辨率和畸变特性,达到了系统设计的指标要求。 此外,论文针对研制的8英寸视场的投影光刻物镜,从光学设计要求出发,分析了影响光学系统成像质量的各种主要误差因素。通过ZEMAX软件确定了我们的镜头的光学设计结果。并且进一步地,通过ZEMAX模拟,确定了加工容差,并对其加工和装校过程作了阐述。