【摘 要】
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作为一种超硬材料,立方氮化硼(cBN)因为其良好的机械、光学、化学、电学和热学性质而广泛应用于光电器件和高速切削领域,然而其合成机制不明确限制了大颗粒高质量cBN单晶的合成。立方氮化硼由六方氮化硼(hBN)转化而来,在转化的过程中形成了cBN/hBN界面结构。因此本课题基于密度泛函理论,应用第一性原理,分析了cBN/hBN界面的性质,包括界面结构、界面结合能和界面电子结构分析,为cBN单晶合成机制
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作为一种超硬材料,立方氮化硼(cBN)因为其良好的机械、光学、化学、电学和热学性质而广泛应用于光电器件和高速切削领域,然而其合成机制不明确限制了大颗粒高质量cBN单晶的合成。立方氮化硼由六方氮化硼(hBN)转化而来,在转化的过程中形成了cBN/hBN界面结构。因此本课题基于密度泛函理论,应用第一性原理,分析了cBN/hBN界面的性质,包括界面结构、界面结合能和界面电子结构分析,为cBN单晶合成机制提供理论基础。本课题主要从以下几个方面展开研究。首先,从Materials Studio数据库和无机晶体
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