【摘 要】
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第一章分别介绍了多孔硅的研究背景、研究意义和研究历史,以及制备方法和形成机制,并且介绍了几种较有影响力的发光机制模型.第二章利用表面活性剂对多孔硅进行表面修饰,研究
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第一章分别介绍了多孔硅的研究背景、研究意义和研究历史,以及制备方法和形成机制,并且介绍了几种较有影响力的发光机制模型.第二章利用表面活性剂对多孔硅进行表面修饰,研究了不同表面活性剂修饰的多孔硅的荧光光谱.第三章对不同多孔硅样品荧光光谱的温度特性进行了研究.室温以下,样品的发光强度随温度的下降先增强后减小.室温以上,样品A<,1>的短波长光谱峰基本不随温度改变,长波长光谱峰随温度升高,峰位蓝移、强度增加;样品A<,2>随温度升高,峰位红移、强度减小.第四章对多孔硅的拉曼光谱进行了研究.当激光功率较低时,多孔硅的拉曼光谱主要表现为略低于520cm<-1>的尖锐单峰,随激光功率的增大,拉曼峰出现红移和不对称展宽,并且当激光功率增加到一定阈值时,单峰劈裂成双峰.我们对实验现象进行了初步的分析和讨论,表明拉曼峰的红移和展宽是光学声子的量子限制效应引起的,激光功率达到一定阈值时,LO和TO声子模发生劈裂,所以单峰变为双峰.
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