在电容屏发展初期,市场上主要存在三大类嵌入式触控面板,但其实都未曾投入大量生产,即光学技术触摸面板、电容技术触摸面板和电压技术触摸面板。投射式电容技术自2007年苹果iPhone应用量产并且在手机市场上取得巨大成功开始,就逐步引导了触控技术的发展潮流,并渐渐淘汰了电阻式触摸屏,使其淡出了市场。现在业内存在一定差异的是在投射式电容技术中,薄膜电极的位置设计,最主流的两种技术分别是On-cell和In-cell。2012年,面板厂商协同芯片供应商开发了单层多点电极设计方案。我们将此技术和传统的触摸屏电极设计方案最对比,单层多点产品的再生产过程中只需要镀一次膜,并不用做绝缘的架桥设计(Bridge)。单层多点图案开始应用于On-cell触摸屏技术,其最初开发的原因是为了改善生产和材料的成本,因为采用on-cell技术的产品可以省去一步工艺(节省一张mask),而且可以节约传统张膜中间的OCA/OCR(光学胶),单层多点图案成了On-cell LCD的主流。当面板厂的嵌入式触控面板采用单层多点图案时,由于仅需要一道光罩,致使其良率高于过去采用的单面ITO图案。现在单层多点技术在业界比较大的问题就是图形可见问题。此问题会极大影响客户的使用体验,所以业内将此产品定义为B级或不良品。如果此问题不能很好的解决,那么成本优势将不复存在。此文的研究方向是解决研究单层多点TP产品制造中ITO图形可见的解决方法,希望能找到寻求较好的解决方法制成工艺来提高量产良率。本文从制程角度分析了单层多点触摸屏工艺ITO图形可见的原因,并针对制程中的ITO图形可见问题进行了分析。从现象追踪到制程,并通过调整制程参数如成膜厚度,氧分压,调整成膜温度和后烘温度条件并最终基本解决了ITO图形可见的问题。为后续的生产提升了良率,使工厂生产的量产单层多点ITO触摸屏技术在成本上更具竞争力。