Pt基BiFeO3铁电磁薄膜的脉冲激光沉积及Tb掺杂改性研究

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【摘要】

：

铁酸铋(BiFeO3)作为室温下兼具铁电和铁磁性能的多铁性材料,在磁电耦合器件、传感器、自旋电子器件、信息存储器件、电容-电感一体化器件等领域具有广泛的应用前景。针对现有Pt基BiFeO3薄膜的研究较少及其铁电和铁磁性能不够理想等问题,本论文采用脉冲激光沉积技术,在Pt(111)/Ti/SiO2/Si基片上制备BiFeO3铁电磁薄膜,重点研究了沉积工艺参数(激光能量密度、基片温度、氧气分压)对薄膜

【作者】

：

易美林

【机构】

：

武汉理工大学

【发表日期】

：

2013年11期

【关键词】

：

BiFeO3薄膜 Pt（111）/Ti/SiO2/Si基片脉冲激光沉积铁电性能铁磁性能 Tb掺杂

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