高精度微光学器件激光直写光刻系统研究

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近年来,集微光学、微电子、微机械装置于一体的MEMS和MOEMS技术迅猛发展,推动了微细加工技术的不断改进和提高,其中激光直写光刻技术因其控制灵活,不需要掩模,加工周期短,加工精度高,受到越来越多的关注。本论文研制了一套高精度激光直写光刻系统,它采用带17位增量式编码器的松下MINAS A系列交流伺服马达,同时还采用基于高精密滚珠丝杆和超精密线性滑轨导向的X-Y运动平台,可以实现约30nm的运动控制灵敏度。论文针对该系统开发了一套基于ISA总线的三维运动控制卡,它采用8253计数器来控制马达运行速度和行程,同时采用8255接口芯片来控制马达运行方向,实现马达限位保护。进一步论文采用PCI9052芯片实现了三维运动控制卡从ISA总线到PCI总线的升级。软件方面,在Visual C++开发环境下开发了控制软件界面,实现了直线和曲线运动控制,进一步还采用WinDriver开发了PCI设备驱动程序以及相关应用程序。通过感光胶片和SU-8光刻胶的光刻实验,表明上述激光直写光刻系统完全能够满足光刻精度的要求,并且具有控制简单,行程轨迹精确、响应速度快、性能稳定等特点,适用于许多微光学器件加工领域。
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