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由于能源危机和环境污染等因素,人类需要开发新型能源。太阳能因取之不尽、无污染等优点成为了人们研究的热点。提高太阳能电池的光电转换效率和降低成本是太阳能电池开发的两个重点。减少受光面上入射阳光的反射率是提高太阳能光电转换效率的有效手段之一,用贵金属粒子辅助化学刻蚀硅制备减反射结构是一种降低表面反射率的重要方法。为制备高减反射的Si表面结构,本文采用化学镀和磁控溅射镀在单晶硅和硅薄膜表面沉积银粒子,在HF-H_2O_2-H_2O刻蚀液中制备减反射结构,采用场发射扫描电镜、原子力显微镜和紫外可见分光光度计