三氧化钨基光电极的制备、表征和光电化学性质研究

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近年来半导体光催化剂在能源和环境中的应用发展迅速,目前已有大量相关文献报道WO3半导体材料,但WO3自身存在一些缺点如禁带宽度相对较窄,使其在实际中的应用受到限制。为了克服或者降低WO3本身的缺陷,需要对WO3进行修饰。因此本论文分别采用添加Ni(OH)2催化剂,制备FTO/WO3/Bi VO4复合膜和对WO3薄膜的表面形貌进行改善的方法对WO3薄膜进行改性,初步研究了它们的光电化学性能。本论文研究分为三个部分:(1)FTO/WO3/N i(OH)2薄膜光电极的制备及其光电化学和光电催化性能研究。通
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