出于对我国企业R&D投资的税负情况、税收优惠政策效果的关注,以及资本边际有效税率这一工具的优越性,本文研究了资本边际有效税率对我国企业R&D投资的影响。本文主要贡献是在经典的K-F法的基础上,综合考虑税收因素和非税因素,提出了符合我国国情的资本边际有效税率的计算公式,并代入数据测算分析进一步验证公式,最终将公式测算结果应用于研究资本边际有效税率对企业R&D投资的影响,并提出相应对策建议。本文研究过程及成果主要体现在以下四点:一是提出了符合我国国情的资本边际有效税率测算方法。首先界定和总结了影响我国资本边际有效税率的因素,包括税收因素和非税因素。其中税收因素主要考虑了企业所得税、个人所得税、增值税、财产税;非税因素主要考虑了资产折旧和抵免、债务和股权的融资比例、债务名义利率、股权名义收益率、通货膨胀率、经济折旧率。进而将这些影响因素融入到经典的K-F法的基本公式中,提出了符合我国国情的资本边际有效税率测算方法。二是进一步验证公式,测算分析了2011-2016年我国A股上市公司的资本边际有效税率。测算结果显示,在此期间资本边际有税率比较平稳,呈现逐年小幅下降趋势。分析原因后认为该测算结果符合实际情况,进一步验证了公式的合理性。总体比较平稳是由于此期间我国的税收政策没有发生重大变化;逐年小幅下降的主要原因是折旧现值抵税的逐年增加,折旧现值抵税的比例逐年增加,意味着企业实际承担税负的比例逐年下降。而折旧现值抵税的逐年增加主要是受到折现率和企业所得税税率的综合影响。折现率大致呈逐年下降趋势,但在2013-2014年间出现小幅增长,不过在此期间所得税税率有明显的下降,因此两者效果得到中和。所得税税率下降是由于该期间有较多的企业享受了10%低税率的税收优惠政策。三是将公式测算结果应用于研究资本边际有效税率对企业R&D投资的影响。构建计量模型,分别进行静态面板回归和GMM动态面板回归,除资本边际有效税率外,还考虑了其他因素对企业R&D投资的影响。计量分析中,由于税收政策对企业投资的影响具有滞后性,因此自变量选择了滞后一期的资本边际有效税率,即研究t-1期的资本边际有效税率对t期企业R&D投资的影响。两种方法的实证结果均显示:第一,资本边际有效税率与研发强度呈显著负相关,表明我国企业的R&D投资对税收政策的变化十分敏感,减税政策对企业的R&D投资主要还是发挥积极的刺激作用;第二,政府补助强度与研发强度呈显著正相关,表明政府补助与税收政策一并,均为我国政府激励企业R&D投资的重要手段;第三,研发强度的滞后项与研发强度呈显著正相关,表明研发活动具有延续性和传承性;第四,企业规模与研发强度呈显著负相关,这符合现代观点所认为的创新活动和企业规模之间是倒U型关系,即在企业规模大到一定程度后,规模的进一步扩大反而会导致研发创新的投入出现停滞甚至倒退;第五,资产负债率和研发强度呈弱负相关,这与我国国情密不可分,资产负债率高很可能并不意味着企业存在财务困难,反而可能说明该企业财务经营状况良好,金融机构愿意借款给它;第六,总资产报酬率、现金投资率和研发强度之间呈弱正相关,其中总资产报酬率在动态面板回归时与研发强度之间呈显著正相关正相关,表明良好的盈利能力和充足的现金流可以让企业有更多的资金支持R&D活动。四是基于本文的研究成果与结论,结合我国国情现状,提出了六点针对性政策建议。第一,大力推进一系列综合减税改革;第二,强化事前间接税收优惠政策;第三,适当降低流转税的比重;第四,加强对相对弱势企业的税收扶持;第五,财政补贴与税收优惠相辅相成。第六,利用现代信息技术监控和模拟。