留学生汉语动态助词习得研究

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建筑微气候受到多种因素影响,下垫面作为影响建筑微气候的关键因素,合理规划下垫面对室外热环境的改善至关重要。本文以不同覆盖率的草地为研究对象,搭建了下垫面反射率综合测试装置,在室外自然环境中进行不同草地下垫面的反射率测量,同时检测其地表与浅层的温度变化,分析草地下垫面对周边热环境的影响机理。结果表明:裸露地表相较于草地反射率下降了50%以上,草地下垫面相较于裸露地表具有一定的降温能力,降温幅度一般在
<正>艺术文化需求近年来不断增长以及各地艺术培训机构的快速发展和壮大,是社会经济快速发展和人民基本生活品质不断提升带来的必然趋势。在此背景下,艺术培训开始走向社会化和市场化,逐渐改变了以学校为主体的传统艺术培训模式,向着社会、学校和家庭三者结合的方向发展。
期刊
针对晴空、非晴空条件下光伏出力预测精度不高等问题,提出一种改进K均值(K-means++)算法和黑猩猩算法(chimp optimization algorithm,CHOA)相结合,优化最小二乘支持向量机(least squares support vector machine,LSSVM)的模型,进行光伏功率预测。首先,利用密度聚类和混合评价函数改进K-means++对原始数据进行自适应类别划
自20世纪80年代,我国便开始了高校招收高水平运动员的工作,通过高校平台,培养既有较高水平的体育技能又有较高学术水平的人才,将教育与体育相结合达到培养综合素质人才的目的。随着我国从“体育大国”向“体育强国”的转变、“双一流”大学建设的开启,普通高校的高水平运动员学习适应问题也逐渐引发关注。面对高水平运动员与普通生在刚进入大学时的学习差距显著、自身学习能力和学习方法较弱的现象,如何提升高水平运动员学
化学机械平坦化(简称CMP)是现如今唯一可实现材料表面全局或局部平坦化的关键技术,其直接影响着集成电路多层铜布线结构的发展。阻挡层CMP是整个铜CMP过程中至关重要的一步,直接决定了最后的晶圆表面质量。但在阻挡层CMP过程中会产生碟形坑、蚀坑和划伤等缺陷,其会造成器件失效、良率降低等问题。现如今国际上通用阻挡层抛光液以酸性为主,其会有介质去除速率较低、CMP后腐蚀缺陷较多等问题。而较成熟的碱性抛光
市场视域下的艺术培训日益蓬勃发展,但是在高速发展的同时也出现了诸多问题。从艺术培训的产生与兴起入手,简单分析当前市场视域下社会艺术培训现状,对艺术培训的师生配比、教师的师资水平、艺术培训功利性过重等问题进行了阐述,然后提出了加强国家政策措施监管、扭转对艺术考级的片面认知、认清“双减”政策对艺术培训的影响等解决方案,希望通过一系列改变使社会艺术培训能够真正走出困境,成为提升学生艺术审美、弥补校内艺术
浅沟槽隔离(STI)化学机械抛光(CMP)是集成电路制造中的一项关键技术,要求有高的高密度等离子体二氧化硅/氮化硅(HDP/Si3N4)速率选择比(大于30:1),高的二氧化硅去除速率(3000?/min),同时低的氮化硅损失和较小的碟形坑缺陷等。论文主要针对二氧化硅/氮化硅去除速率选择性较差,抛光液的分散稳定性差,以及抛光后的碟形坑缺陷难以控制进行了研究,主要内容如下:(1)HDP/Si3N4速
本文旨在从传播政治经济学的理论视角出发,以“幽灵劳动”这一概念为切入点,系统探讨其历史发展、核心特征、理论价值及现实意义。在此基础上,文章阐述了“幽灵劳动”与“零工劳动”之间的异同,提出两者之间存在一种“新瓶装旧酒”的关联,并反思部分研究在考察更为广泛的平台劳动议题时所存在的局限性。这些局限性主要表现为:相关研究过度依赖“新”概念作为“批判的武器”来分析平台劳动形式的新颖性,而忽略了对资本、平台与
氮化镓(GaN)因其良好的物理性质和化学特性,被广泛应用在微电子和光电子器件中,是现今集成电路产业中至关重要的第三代半导体材料。高性能GaN基器件需要有高表面质量的GaN衬底材料,快速增长的市场需求也需要高效率的加工。然而,由于GaN硬度高且具有化学惰性,加工难度非常大。因此,研究如何高效加工高表面质量的GaN具有科学意义和应用价值。化学机械抛光(CMP)是目前公认的高精密表面加工技术之一。抛光液
降水作为全球气候变化的关键因子,其变化会影响土壤呼吸。微生物是土壤呼吸的关键驱动因素,但是在不同降雨梯度下,针对脆弱生境地区,微生物化学计量与呼吸的关系还不明确。以黄土丘陵区典型撂荒草地为研究对象开展了原位模拟降雨变化的实验(5个降水梯度),测定了土壤呼吸、养分、微生物生物量和胞外酶,并计算微生物计量特征。结果表明,①土壤呼吸(SR)在增雨处理下土壤呼吸显著升高,而在减雨处理下显著降低。②降水变化