大功率器件芯片互连用Ag@Sn粉体制备与性能研究

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随着电子产品朝高集成度、小型化的方向发展,电子产品中的芯片所需要承受的电流密度越来越高,导致芯片的发热量随之增加,其服役温度上升。现有的半导体材料单晶Si做成的芯片在高于150℃时就不能稳定的工作,与Si材料相比,Si C材料的服役温度高,并且能够在600℃稳定的工作,因此Si C材料作为下一代半导体材料被广泛的关注。但是目前能够用于连接这种半导体材料做成的芯片的粘贴材料却少之又少。本文的目标是研究并开发一种新的芯片互连材料用于连接Si C芯片与基板,使Si C芯片可以充分发挥其在高温下稳定工作的能
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古城黄州,“遗爱”新张;苏子遗风,遗墨留香;巧夺天工,丽艳八方;植万树之园林,掘千顷之方塘!广厦环抱,宏桥架影;亭台舞榭,曲水回廊;茂林修竹,花繁叶旺;湖映山色,气吞柴桑;人文
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阻变存储器作为下一代非易失性存储器的有力竞争者之一,在最近十多年来吸引了广泛的关注。作为阻变存储器的核心,阻变材料的阻变性能和阻变机制一直是相关研究方向中的热点问题。本文采用脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)技术在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了TiO_2为功能层的薄膜型阻变存储器单元。本论文通过控制TiO_2薄膜的沉积和退火工艺条件改变TiO_2薄膜中的
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