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为改善烧结NdFeB永磁体的耐蚀性能,本文采用微弧氧化技术在烧结NdFeB永磁体表面制备陶瓷膜层,将微弧氧化技术与电泳涂装技术相结合,在磁体表面制备复合膜层,采用SEM、EDS、XRD等方法研究了陶瓷膜和复合膜层的微观组织结构,并分析了不同电参数下陶瓷膜和复合膜层对改善磁体耐蚀性的影响。研究表明,在铝酸盐体系下制备的陶瓷膜由γ-Al2O3组成,膜层厚度随处理电压和处理时间的增加而增厚,随频率的升高而减少;硅酸盐体系下制备的陶瓷膜可能由非晶相的SiO2组成,膜层厚度随处理电压的升高而增加。两种体系下,当电解液浓度固定时,处理电压对陶瓷层的表面形貌和粗糙度影响较大,铝酸盐体系下,粗糙度随处理电压的升高先降后增,随处理时间的延长先增后降,硅酸盐体系下,粗糙度随处理电压的升高先增后降;铝酸盐体系下的陶瓷膜层厚度、粗糙度、孔径均低于硅酸盐体系中的陶瓷膜层。烧结NdFeB永磁体在铝酸盐体系和硅酸盐体系下的陶瓷层腐蚀电流密度分别为2.17×10-6 A/cm2和2.15×10-6 A/cm2,腐蚀电位分别为-0.833V和-0.932V,腐蚀电流密度较基体均降低一个数量级,铝酸盐体系下的陶瓷膜耐蚀性优于硅酸盐体系下的陶瓷膜。两种体系下经过电泳涂装处理后,有机膜层和复合膜层的厚度随电参数的变化呈现出规律性变动,随着微弧氧化电压的升高,有机膜层和复合膜层的厚度均减小;随着微弧氧化处理时间的延长,厚度均减小;增大电泳电压,有机膜层和复合膜层的厚度增加。硅酸盐体系下的复合膜层,腐蚀电位变化不大,但较基体的腐蚀电位提高约0.4V,腐蚀电流密度相对基体的腐蚀电流密度降低三到四个数量级;随着微弧氧化电压的升高,腐蚀电流密度呈现波动,微弧氧化电压为380V的复合膜层试样腐蚀电流密度最低,为4.49×10-9 A/cm2。盐雾试验结果显示,复合膜层显著提高磁体的耐蚀性能,铝酸盐体系下的复合膜层耐蚀性能优于硅酸盐体系下的复合膜层。铝酸盐体系下,微弧氧化电压420V、处理时间60~90min、频率1000Hz,电泳电压60V处理45s的复合膜层试样盐雾试验失效时间超过500h。