目前红外光学系统设计水平接近或已经到达衍射极限，随着红外探测器灵敏度的大幅度提高，杂散辐射便成为影响光电系统成像质量的重要因素之一。红外光学系统杂散辐射分析与抑制，需要在设计初始阶段将光学设计、结构设计和杂散辐射分析有机结合起来，并采取多种综合抑制措施才能得到预期效果。　　 论文详细介绍了红外系统杂散辐射分析的一些基本理论，系统总结了红外系统杂散辐射分析的原理、杂散辐射引起的图像异常现象以及杂散辐射抑制方法，对红外系统杂散辐射源亦做了详细的论述。　　 文中详尽讨论了非均匀性的定义和产生原因以及红外探测器的两种响应模型，对基于参考辐射源和基于场景两大类非均匀性校正技术进行了研究，为后期工作的展开奠定了理论基础。　　 光机设计抑制杂散辐射的潜力挖掘完毕后，红外系统中残余杂散辐射可能引起图像异常。本文提出运用非均匀性校正的方法进行抑制，给出两点温度标定对冷反射抑制的理论依据。对某型三档中波红外变焦系统进行杂散辐射分析，TracePro红外辐射仿真分析表明：系统中残余的杂散辐射主要源自变焦过程中镜片移动引起的冷反射变化。两点温度校正后，成功消除了视场中的阴影，得到满意的红外图像。实验结果证明：该方法能有效改善红外系统中残余杂散辐射引起的图像异常。