绢云母有机插层改性和纳米片体制备

来源 :中国地质大学(北京) | 被引量 : 0次 | 上传用户:dragonlumeng
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绢云母是重要的工业矿物原料,制备绢云母有机插层改性产物和绢云母纳米单元片体不仅能够最大程度地发挥绢云母的优良属性,而且能够通过附加新的功能作用,是提高绢云母价值和实现高档次应用的重要手段,是绢云母的最有前景的发展方向。本论文以热活化-酸处理-钠化手段修饰的绢云母为对象,研究了绢云母的层间有机插层改性,并在有机插层改性使绢云母层间距扩张的基础上,进行了机械剥离制备绢云母纳米片体的研究。论文对插层改性绢云母和绢云母纳米片体产物进行了表征,对过程机理进行了探讨。研究了二甲基亚砜(短链)和十六烷基三甲基溴化铵(HDTMAB,长链)为改性剂对结构修饰绢云母的有机插层改性,根据结果选定HDTMAB为有效改性剂。试验确定HDTMAB改性绢云母的优化工艺条件为:HDTMAB:绢云母CEC比值=15、HDTMAB-正丁醇溶液浓度两者之比1:2、改性温度(水浴)80℃、搅拌改性时间6h。HDTMAB插层改性使绢云母层间距扩张增大到2.2nm至6.7nm以上,插层率最高达49.09%。研究了插层改性绢云母机械剥离和超声剥离制备绢云母纳米片体的技术。对有机改性绢云母进行机械剥离和超声剥片,均可制得绢云母纳米单元片体。试验确认的机械剥离优化条件为:球:料:水=10:1:3,球磨机转速580r/min,研磨3h。其中机械剥离制得的绢云母纳米单元片体晶粒为16.6nm,超声剥离产物为8.1nm,片层间距2-6nm。对所制备的HDTMAB插层改性绢云母的性能进行了测试表征。HDTMAB插层改性绢云母已由表面亲水性变为疏水性,颗粒的表面接触角增大,表面能降低。改性剂HDTMAB已进入绢云母层间,并以倾斜方式在其中排列,倾斜角度为32.63°。HDTMAB在绢云母颗粒上的最高吸附量为8.72%。
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