【摘 要】
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随着计算机技术的不断发展,已有一百多年历史的椭偏术的研究重点已从该技术本身转移到了它在材料分析中的新用途.该论文介绍了椭偏光谱技术的基本原理、实验方法、数据处理特
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随着计算机技术的不断发展,已有一百多年历史的椭偏术的研究重点已从该技术本身转移到了它在材料分析中的新用途.该论文介绍了椭偏光谱技术的基本原理、实验方法、数据处理特点以及应用范围和局限.并用椭偏光谱技术研究了复杂对象(SiC/Si异质结构)以及新型铁电薄膜(BST和PZT)的光学性质.研究表明,结合横截面透射电子显微镜(XTEM)、选区电子衍射(SAED)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、以及原子力显微镜(AFM)等其他分析手段并建立精细的椭偏分析模型,椭偏光谱技术不仅能定量测量各种薄膜材料的厚度、光学常数和气孔率,而且能从复杂结构中分析得到各层结构的厚度和组份.
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