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托卡马克等离子体中的极向流及其在磁流体不稳定性研究中的应用
【机 构】
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中国科学技术大学
【出 处】
:
中国科学技术大学
【发表日期】
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2018年01期
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针对传统磁控溅射方法沉积氮化钛涂层时存在沉积温度高、等离子体密度低;而沉积氧化铝薄膜时,条件范围很窄,较难控制,同时也很难获得高纯度的氧化铝薄膜的缺点。本文提出了一种
本文利用VMI技术研究了Eu原子4f76p1/26d自电离态的弹射电子角分布。由于研究自电离弹射电子角分布是在自电离光谱可以提供自电离总截面的基础上进一步对其微分截面的探究,所