在8—12μm红外范围内Ge基底上设计和制备的一面宽带减反膜和一面介质+DLC膜。薄膜材料Ge、ZnS和YF3由电子束沉积法制得,DLC膜由PEVCD制得。阐述了利用非均匀膜理论设计红外减反射薄膜的方法,所设计的红外减反射膜膜系优化结果较为理想。基底和镀膜材料选择是同其光学和机械性能相关的。Ge的红外增透膜和介质+DLC膜在红外中波红外波段是非常重要的大气窗口,在航天、气象、遥感等领域有着广泛的应用。此项研究即是要为这种红外光学系统制备一种8—12μm的红外增透膜。虽然基底是高折射率的,尽管这段光谱范围相当大,但整个膜系合成并没有太大的理论困难,主要困难来自于所制备膜时对镀膜材料的选择和介质+DLC膜的制备。尤其是有限的氟化物中找到满意的低折射率材料。这些材料的显微结构普遍显示存在漏孔以至于都不牢固,而且在沉积过程中会吸收水份。经过研究分析我们选择了氟化钇来进行此项研究并加以RF源(射频源)辅助镀膜,并用计算机修正来矫正真空镀膜法生产宽带增透膜时实验值与理论值存在的偏差。取得了良好的效果。用沈科仪镀膜机采用PECVD镀制DLC膜方面的也有很好的效果。