脉冲激光沉积硅基发光薄膜及其特性研究

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采用脉冲激光沉积法制备了富硅二氧化硅薄膜、Si/SiO_2多层薄膜。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、拉曼散射(Raman)等技术对薄膜的表面形貌、微观结构等进行了表征。研究了气压、气氛、退火温度等工艺参数对薄膜发光特性的影响,探讨了硅基薄膜的发光机理。 光致荧光光谱测试表明,所制备的样品在紫外和可见光范围都有光发射,其中紫外到紫光范围的发射光最强,蓝光次之,红光最弱。 富硅二氧化硅薄膜,以波长为270nm的紫外光为激发光,在35
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