为了克服直流溅射中的靶面拉弧问题,近年来提出了新型的用于等离子体喷溅的脉冲电源,即交流溅射电源。从理论上分析了主电路适合等离子体溅射的原理,使用了移相控制方式,有效地提高了功率开关的频率,从而大大减小了电源的体积,使得安装运输方便化,优化了电源设计。采用串联双H桥逆变的方法,达到了提高电源输出电压的效果。同时,电源装置中使用双靶转换技术,使得各个金属靶之间可以自由转换,且转换安全可靠的特点。以往镀膜中的电源都被设计为输出恒定电流的电源,通过恒定的电流控制溅射方式,这次则研究了恒压电源在镀膜技术中的应用,并且经过实际的试验证明了恒压中频电源稳定应用在镀膜技术中。论文的主要内容是按以下顺序依次介绍的：介绍主电路,主要介绍了主电路中的两次逆变,其中逆变电路采用最新的逆变思想(逆变电路串联——双H桥)和开关器件——双绝缘栅型双极晶体管IGBT。并详细阐述了高频变压器的设计与制作方式。论述控制电路,由于提高逆变电源的频率是减小逆变电源体积、消除噪声的关键性问题,先介绍了制约逆变器电源高频化的主要因素——电力开关器件的工作状态,阐述了软开关技术的起因和分类,详细地介绍了软开关技术的发展历程和在各个阶段的典型代表电路拓扑结构,指出了他们的优缺点。在分析了限制逆变电源高频化因素的基础上,综合了软开关技术的最新研究成果,并分析设计了移相式PWM软开关控制技术及电路的控制策略。设计保护电路,有过电流保护电路,过电压保护电路,和过载保护电路并且分析了的原理。得出试验结果和课题结论,结论证明该电源稳定性高,工作可靠,镀膜质量好,有较好的市场前景。