由大基元结构所形成的晶体所涉及的结晶行为与原子分子或离子等传统晶体不同，除具有基元材料本身的性能外，还具有基元间耦合作用产生的新颖性能，这方面的研究还处于开始阶段。本论文采用旋涂法在平面衬底上组装大基元晶体，分析其中出现相变的原因。之后以共组装法制备的大基元胶体晶体为模板，制备反光子晶体，并研究其光学带隙对荧光物质荧光性能的影响。在有特定结构的衬底上，用提拉法研究在其上组装大基元粒径与衬底凹槽宽度比值不同时对大基元颗粒结晶性能和最终结构的影响。模拟传统结晶学的外延生长技术，用液态循环流动法在光刻法制备的衬底上组装大基元颗粒，研究不同实验条件下的结晶行为。主要研究内容如下：1、旋涂法在普通载玻片上组装单分散胶粒，考察使旋涂胶体晶体薄膜有序度最高的最佳旋涂转速；对旋涂胶体晶体薄膜结果中出现的二层或多层现象及层与层之间发生的相变提出理论解释。2、采用共组装模板法制备SiO₂反光子晶体，再利用双基片沉积法向其中掺杂荧光染料喹吖因二盐酸盐，研究反光子晶体光学禁带对物质荧光性能的影响。3、采用旋涂法在CD盘上组装PS胶粒和SiO₂胶粒，结果显示当组装基元与衬底的表面及物理性质相近时，基元可以在衬底上很好的分散开来。在此基础上，利用提拉法在CD盘上组装不同平均粒径大小的PS胶粒，由于凹槽宽度与PS胶粒粒径比不同，可以组装出不同的结构式样。4、利用机械拉伸法在PDMS/Pt柔性衬底/刚性薄膜系统上制备有序结构褶皱，通过控制金属Pt薄膜的厚度，得到一系列不同波长的褶皱系统，利用提拉法在其上组装粒径均一的PS胶粒，得到结构不同的组装结果。5、用光刻法制备在ITO导电玻璃/负性光刻胶衬底上预制特定结构，以蠕动泵作为驱动力，使单分散胶粒悬浮液在衬底上循环流动，研究液体流动方向相对于衬底上的条纹平行或垂直对组装结果的影响。