【摘 要】
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目前空间电磁环境日趋复杂化,为满足光学器件透可见/红外波段屏蔽电磁波的要求,本文研究在PET柔性基底上制作金属网栅电磁屏蔽膜。通过分析网栅参数对其电磁屏蔽效率及透过率
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目前空间电磁环境日趋复杂化,为满足光学器件透可见/红外波段屏蔽电磁波的要求,本文研究在PET柔性基底上制作金属网栅电磁屏蔽膜。通过分析网栅参数对其电磁屏蔽效率及透过率的影响,优化设计网栅结构。针对PET基底的柔性特点及其热稳定性,经试验研究优化光刻工艺中的各工序参数并解决参数间的匹配问题,从而得到所需的图形结构。对比了热蒸发和磁控溅射法制备金属膜的牢固性和膜层质量,采用磁控溅射法制备电磁屏蔽膜,通过优化溅射功率、溅射气压等参数使膜/基结合更牢固。最后在PET基底上得到线宽为9μm,周期为160μm的金属网栅电磁屏蔽膜,其在400~2000nm波段的透过率为73%;在2~18GHz频段的电磁屏蔽效率为15dB以上。
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