化学浴沉积法制备ZnO薄膜的择优生长取向及机制的研究

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氧化锌(ZnO)作为一种新型的直接宽禁带氧化物半导体材料,一直受到广泛关注。ZnO具有室温下3.37eV的禁带宽度,60meV的激子束缚能,优良的压电、气敏、压敏等特性,而且原材料廉价丰富、无毒、化学稳定性及热稳定性好、抗辐射性强。因此,ZnO的诸多方面成为了研究的热点。其中,薄膜作为ZnO的主要形态结构,具有重要的研究意义和应用价值。近几年,随着ZnO薄膜材料的制备技术,生长机制等的研究的越来越成熟,很多研究工作开始将ZnO薄膜应用到工业生产中。比较看好的领域有光电领域的太阳能电池用来代替
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