超光滑表面在光学、微电子、能源等各个领域都有着重要的应用,成为各国精密加工技术研究的重点。尤其在光学领域,超光滑表面成为降低散射,提高抗破坏阈值的一项关键技术。而利用离子束刻蚀抛光法制备超光滑光学表面的关键技术之一即是超光滑光学表面平坦化技术。本文主要以ZnS、KDP为基底材料来研究超光滑光学表面平坦化技术,内容主要包括了超光滑光学表面的特点、应用、加工工艺等,并针对如何在晶体表面获得粗糙度低的平坦化层进行了工艺实验,总结出一条完整的工艺路线并给出具体工艺参数。获得的主要结论如下：1)在ZnS晶体基底表面,使用P11-1500胶,在低转速600r·min-1,高转速5000r·min-1进行旋涂,固化温度150℃,时间30min。然后再经过热回流,回流温度190℃,回流时间10-20min,热回流后再进行气相回流,回流通气流量200ml·min-1,回流时间40-60min,最后可获得表面粗糙度较低并且表面疵点较少的平坦化层,表面粗糙度最低可降到1.2nm以下。使用PI1-700胶,在低转速600r·min-1,高转速3000r·min-1旋涂,后热烘温度150℃,热烘时间15min。然后再经过热回流,回流温度190℃,回流时间10-20min,最后进行气相回流,通气流量500ml·min-1,通气时间45min时可获得表面粗糙度较低并且表面疵点较少的平坦化层,表面粗糙度最低可降到1.1nm以下。2)在KDP晶体基底表面,使用P11-1500胶,在低转速600r·min-1,高转速2000r·min-1. 4000r·min-1时进行旋涂,涂胶后以80℃热烘4h固化后,以与上述同样的气相回流工艺后,可获得表面粗糙度平均在1.25nm左右的平坦化层。使用P11-700胶,高速转速在5000r·min-1时,涂胶后以80℃热烘4h固化后,以同样的气相回流工艺后,同样可获得表面粗糙度平均在1.25nm左右的平坦化层。