DC jet plasma CVD法制备cBN薄膜设备与工艺研究

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【摘要】

：

立方氮化硼（Cubic Boron Nitride，简称cBN）有着优异的物理化学性质，硬度高、耐磨性好、抗氧化能力强、不易与铁系金属发生反应、可进行P型和N型掺杂，使其在机械切削加工、光学和电子领域有着非常明朗的应用前景。但是目前国内对CVD法制备cBN的研究工作尚不成熟，因此开展CVD法cBN薄膜的制备研究工作有着重要的意义和价值。为探索cBN薄膜的制备工艺，本文开展在不同衬底上制备cBN薄膜

【作者】

：

户海峰

【机构】

：

南京航空航天大学

【发表日期】

：

2013年01期

【关键词】

：

cBN 直流喷射等离子体等离子体弧金刚石过渡层有限元仿真

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