【摘 要】
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该文研究了直流磁控溅射法在Ar+N2混合反应性气氛下沉积的(Ti,Al)N膜的高温力学和化学性能.其性能依赖于微观结构,因而受沉积参数的影响.通过XRD和XPS手段研究了膜的成份、结
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该文研究了直流磁控溅射法在Ar+N2混合反应性气氛下沉积的(Ti,Al)N膜的高温力学和化学性能.其性能依赖于微观结构,因而受沉积参数的影响.通过XRD和XPS手段研究了膜的成份、结构特点,发现沉积的(Ti,Al)N镀层具有Bl NaCl结构,并以此研究了(Ti,Al)N膜的应力状态.耐磨性和耐腐蚀性研究表明Al和V的添入对其性能有明显改善.而低的显微硬度值是由于零偏压所致.
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