掺杂SnO2材料光电性能改性的研究

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二氧化锡(SnO2)材料是一种具有金红石结构的宽禁带半导体材料,是一种重要的无机功能材料。SnO2是一种新型透明导电氧化物,它的宽带隙(3.6eV)和高激子束缚能(130meV)使得二氧化锡基半导体材料具有发展潜力。掺杂SnO2所形成的材料具有高导电性、高透光率、高红外反射率、高紫外吸收率等性能,从而使Sn02有更广泛的应用前景。本论文将以SnO2为基材料,采用基于密度泛函理论第一性原理的全电势线性缀加平面波法,在广义梯度近似(GGA)下应用WIEN2K软件进行计算。首先,我们构建222的SnO2超晶胞结构,并分别以过渡金属元素Fe、Mn进行掺杂,接着以非金属元素S与Fe共掺,继而又将Sn15FeO32结构注入电子,研究电子态密度、能带图以及光学图谱。研究结果表明,掺Fe后材料呈现半金属性,随掺杂浓度增加,费米能级进入价带,带隙逐渐减小,Fe原子之间耦合作用增强;通过掺杂能够在一定程度上改变成键性质,使其具有金属键性质;光学谱线(吸收谱、反射谱等)与介电函数虚部谱线相对应,各谱线均发生蓝移现象,各峰值与电子跃迁吸收有关。而掺杂Mn原子之后,带隙同样减小,这主要是由于Mn3d和O2p态之间的强烈耦合在导带底引入了一系列杂质能级所致。掺Mn后材料为P型半导体,且随着Mn浓度增加,介电函数虚部及吸收谱均发生红移。Fe、S共掺时,材料仍为直接带隙半导体,体系呈现半金属性,且随S浓度增加,态密度向低能方向移动,带隙减小;共掺体系电荷密度重新分布,随S浓度增加,Fe原子极化程度增强,原子间键合能力增强;共掺后介电函数虚部谱与光学吸收谱各峰随S浓度增加而发生红移,光学吸收边减小。对于电子注入Sn15FeO32体系,当注入电子数小于1.2时,材料表现为半金属;当注入电子1.0个,总磁矩最大为5.19μB;随着电子浓度增加,光学图谱向低能级方向蓝移,光学吸收边增大。其次,我们构建2×2×3的SnO2超晶格结构,分别以过渡金属元素Fe、Mn一层及多层掺杂,之后以Fe、Mn共掺,分析电子态密度、电荷密度分布以及各光学性质。结果表明,我们以单层及两层Fe原子进行掺杂, Fe的3d电子与Sn5p和O2p轨道杂化在费米能级处形成了电子占据态,材料导电性增强、吸收谱展宽、在紫外-可见光区域反射率、折射率加宽。掺杂一层Mn原子时,在费米能及处形成自旋向上的电子占据态,材料表现出半金属性;掺杂两层Mn原子时,两层原子间存在较大差距,但杂质原子磁矩都有所增加。当用Fe、Mn共同掺杂超晶格SnO2,共掺与单掺时表现出了差异,特别是Fe、Mn原子的分波态密度,且Fe、Mn融合性较好;光学谱线相比于单掺时向低能级方向移动,曲线更加平滑。最后,SnO2在优化后与石墨烯具有相同蜂窝状稳定结构,我们为了实际需要,也在努力探讨SnO2纳米面的模型构建与性质研究,并初步取得了一些成果。我们得到,面结构态密度与原胞本征态大体一致,但是能级分裂增多。光学谱线系数均有所减小,曲线更加平滑,在紫外-可见光区折射率升高。
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