【摘 要】
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通过室温磁控溅射方法在玻璃基底上制备了厚度为300 nm的氧化锌薄膜,采用离子注入技术在ZnO薄膜中顺次注入Fe和C离子,Fe离子注入能量和注入剂量分别为120 keV和5×10~(16) cm~(-2),C离子注入能量为20 keV,剂量分别为1×10~(15)、3×10~(15)和5×10~(15) cm~(-2)。部分注入后的ZnO样品在氧气气氛下进行退火,退火温度为350℃,时间为两个小时
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通过室温磁控溅射方法在玻璃基底上制备了厚度为300 nm的氧化锌薄膜,采用离子注入技术在ZnO薄膜中顺次注入Fe和C离子,Fe离子注入能量和注入剂量分别为120 keV和5×10~(16) cm~(-2),C离子注入能量为20 keV,剂量分别为1×10~(15)、3×10~(15)和5×10~(15) cm~(-2)。部分注入后的ZnO样品在氧气气氛下进行退火,退火温度为350℃,时间为两个小时。借助于扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射谱仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外-可见吸收
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