【摘 要】
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TiN涂层因具有高硬度、低摩擦系数、高粘着强度、化学稳定性好、良好的导电性和与钢铁材料的热膨胀系数相近等优点，而被广泛应用于机械、材料、化工、电子、冶金、航空航天等
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TiN涂层因具有高硬度、低摩擦系数、高粘着强度、化学稳定性好、良好的导电性和与钢铁材料的热膨胀系数相近等优点，而被广泛应用于机械、材料、化工、电子、冶金、航空航天等领域。特别是被用作高质量的切割工具，抗磨粒、磨蚀和磨损部件的表面工程材料。目前制备TiN涂层的主要方法有：化学气相沉积法（CVD）、物理气相沉积法（PVD）、等离子体化学气相沉积法（PCVD）、离子束辅助沉积法（IBAD）等。 本研究课题针对上述几种制备TiN涂层方法现存的问题，进行了技术改进。其基本思路是：利用辉光放电中的溅射现象、Ti丝的尖端放电和辅助阴极之间的空心阴极效应，并通入一定比例氮气和氩气的混合气体，在碳钢表面一次性合成TiN复合渗镀层。整个复合渗镀层成分、硬度和结构均呈梯度分布，渗镀层与基体的膜基结合力好，内应力小。该技术能够在基体表面形成所需厚度、结合强度极佳的复合渗镀层。同时具有节约贵金属，节省能源、无公害，可大面积处理和表面合金成分可控等显著优点，属于绿色环保技术。 在TiN复合渗镀层基础上进行PVD沉积薄膜，形成TiN复合渗镀层+TiN或TiN复合渗镀层+TiB2或TiN复合渗镀层+TiN+TiB2层。将TiN复合渗镀层、TiN复合渗镀层+TiN、TiN复合渗镀层+TiB2、TiN复合渗
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