NF3气体作为半导体工业中的等离子蚀刻剂和化学汽相沉积室的清洗气体在电子工业中发挥着很重要的作用,作为电子气体,对NF3气体的纯度要求很高。根据粗NF3气体的组成可以选择不同的纯化工艺和设备,本文研究了当前应用较多的冷阱法、吸附法和改进吸附法等纯化方法的优缺点,提出了一种新型的纯化工艺—连续低温精馏纯化方法,通过此方法得到的NF3气体的纯度能够满足电子工业用气的要求。本文对连续低温精馏生产高纯NF3过程的工艺流程和主要设备的设计方法进行了研究,并在广泛的操作条件下对精馏过程进行了精馏模拟计算,以期得到最佳的工艺条件,为实验室试验提供理论数据。本文对各种精馏模型和计算方法进行了分析研究,找到适合于本物系的精馏模型—均相精馏模型塔和计算方法—方程解离法,并采用状态方程法进行了相平衡的计算。利用这样的计算方法进行了精馏模拟计算,得到了精馏塔的塔板数,回流比和进料板等工艺参数以及精馏塔中汽、液相流率,组成分布等变量的值。本方法不仅适用于本物系,也适用于与本物系相类似的物系。