纳米压印技术具有低成本、高分辨率、高产能等优点,因此得以应用于亚波长结构减反射膜的制备中。传统的压印模板一般采用电子束直写或者极紫外光刻等高分辨率的技术制备,但这些技术成本高、速度慢。利用阳极氧化法制备的多孔氧化铝模板和多孔硅模板,具有相对均匀的纳米级孔洞阵列结构,各种参数在一定范围内可以进行调整,是两种理想的模板材料。本论文首先介绍了一种基于多孔氧化铝模板和紫外纳米压印技术的亚波长结构减反射膜的制备方法,整个制备过程在常温常压下进行。利用该方法制备出的减反射膜,在425—1200nm的光谱范围内可以将硅片的表面反射率降低到4%左右,同时可以将太阳能电池的效率提高19%。此外,本文首次将多孔硅模板应用于纳米压印技术中,用多孔硅作为压印模板,通过热纳米压印技术进行亚波长结构减反射膜的制备研究。通过实验确定了以80mA/cm2的电流密度开口,40mA/cm2的电流密度腐蚀,之后再用一定浓度的KOH溶液扩孔的方法,可以得到孔径在60—80 nm范围内,符合纳米压印要求的多孔硅模板。以该条件制备的多孔硅材料作为模板,分别尝试使用聚二甲基硅氧烷、乙烯乙酸乙酯共聚物和聚苯乙烯三种材料进行亚波长结构减反射膜的制备。利用这三种材料都能够实现多孔硅模板上纳米孔的图形转移,其中使用聚苯乙烯材料的制备结果最好,在530—850nm的波长范围内能够将硅片表面的反射率从40%以上降低到16%左右,具有一定的研究价值。