【摘 要】
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本文结合国家自然科学基金项目“埃及超光滑表面低温无磨料抛光的理论与实验研究”,对低温无磨料抛光加工方法进行了较为系统的研究。文中详细介绍了实现低温无磨料抛光的实
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本文结合国家自然科学基金项目“埃及超光滑表面低温无磨料抛光的理论与实验研究”,对低温无磨料抛光加工方法进行了较为系统的研究。文中详细介绍了实现低温无磨料抛光的实验装置及冰盘、工件盘的制备过程,阐述了该加工方法的加工工艺和加工后工件的清洗与测量,用不同的水质、压头压力,冰盘转速、工件盘偏心及抛光时间对半导体材料进行了抛光试验,研究在此条件下,对抛光结果的影响规律,得出抛光所需的最佳加工参数,并且在微观的原子、分子尺度上,运用表面、界面和半导体材料结构等理论对半导体材料冰盘抛光加工过程中半导体材料表面微观去除机理以及出现的试件表面粗糙度变化规律,进行了初步探讨和解释。
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