偶氮苯聚合物光致异构引起的折射率改变的Z扫描法研究

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测量光学非线性的Z-扫描法自从1989年由Sheik等人提出以来,由于其实验装置简单,而灵敏度又高等优点得到迅速的推广和应用.从研究的非线性效应来看,Z扫描法以往主要用于研究光克尔效应、光折变效应和可饱和三阶非线性效应.该文把Z扫描法推广到对光致异构引起的折射率改变效应的研究.偶氮苯聚合物的光致异构是一种很重要的光化学性质,几十年来一直是光子学领域的一个研究热点.光致异构能够引起材料的折射率的改变,该文基于光致异构过程的一个模型——"角烧孔"机制,推导出光致异构引起的折射率改变公式.对于激发光是线偏振光和圆偏振光(或无偏振光)的情况,该公式形式上和可饱和三阶非线性折射率改变公式一样.对线偏振光:△n=n2Is I/I+Is;对圆偏振光或非偏振光:△n=n2Is I/I+Is;且n2=1.5n2.该文针对上述折射率改变公式推导出一个Z扫描曲线拟合公式,并用Z扫描法对掺杂偶氮苯化合物DRl3的PMMA薄膜进行了实验.从总体上来说,实验结果与理论分析的结果符合得较好.实验结果表明:线偏振光所引起的折射率改变效应比圆偏振光或非偏振光引起的折射率改变效应更强;光致异构所引起的折射率改变效应和实验的环境温度有关,和样品的玻璃化温度有关.
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