团簇束流系统是一套由磁控溅射、离子光学、质量选择器等组成的团簇制备系统,可以生产无配体、杂质少、尺寸可控的高质量团簇。但该系统的产量是其主要局限,而离子光学作为产量损失的重要一环,亟待优化。本文使用有限元方法对离子光学的电场分布和粒子轨迹进行了模拟,通过遗传算法优化了离子光学的参数,并与实验情况进行了对比分析。模拟结果能较好反映离子光学的物理机制、缩小调参范围,对实验起到有效的辅助作用。本文使用有限元模拟的方法,讨论了加宽离子光学和扩大静电透镜出口孔径两种方式的粒子通过率情况。首先,我们计算了通过率随离子光学加宽宽度的关系,并通过计算静电透镜出口和质量选择出口的粒子分布讨论其机制。另外,我们也计算了通过率随静电透镜出口孔径变化的关系,并讨论了改变孔径对离子光学系统其它部分的影响。这一工作为提高离子光学的效率提供了理论参考和数据支持。